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    如何做到單晶硅清洗用超純水設備“呵護備至”

    2021-08-03 09:37

      單晶硅是指硅的單晶體,具有基本完整的點陣結構。不同的方向具有不同的性質,是一種良好的半導材料。用于制造半導體器件、太陽能電池等。

      太陽能電池行業要應用單晶硅,首先就要對其加工清洗,而超純水設備就是一種出水電阻率非常高,不含任何雜質,不導電的設備,符合單晶硅的清洗需求。

      萊特萊德單晶硅清洗用超純水設備在設計上采用雙級反滲透與EDI及拋光混床相結合的制水工藝,具有水利用率高,運行可靠,經濟合理等特點。但是單晶硅清洗用超純水設備在長時間工作后,如果不定期進行維護,就很容易被污染,因此單晶硅清洗用超純水設備要這樣“呵護”,才能保證設備出水水質符合要求。

      1、將清洗液進行混合。

      2、用清洗泵低流量將清洗液以低流速、低壓力打至反滲透系統,并排走原水,防止清洗液稀釋。

      3、保持設備溫度穩定,用清洗泵將清洗液在系統中循環。

      4、清洗泵進行浸泡一小時即可,污染較嚴重的反滲透膜可進行更長時間的浸泡清洗。

      5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分鐘,使反滲透膜上被洗掉的污染物隨高流速水沖走。

      6、用清水將清洗液沖去。此外,用酸清洗時應測pH值,當pH值上升0.5以上時應增加酸量。

      萊特萊德超純水設備可以連續穩定的制備品質優良的超純水,水質穩定在ppt級別,尤其是硼離子可以≤5ppt,能夠更好助力集成電路企業的發展,形成更強大的企業競爭力。

     

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